Wet-Processing
Die Produktpalette der acp GmbH umfasst auch Prozessanlagen für die Bereiche Reinigung und Strukturierung von Wafern und Masken aus dem Betriebsübergang der Contrade GmbH in acp.
Dies umfasst das Entwickeln, Ätzen, Strip und Metall-Lift-off in Spin- oder Tankprozessen für die Halbleiterindustrie und verwandte Bereiche wie Photovoltaik.
Der Kundenkreis erstreckt sich von der Elektronikbranche über die Photovoltaik zur Optik und Feinwerk-, Mikro- und Nanotechnik. Die 30-jährige Erfahrung in Prozesstechnik und Maschinenbau schätzen unsere Kunden.
Dies umfasst das Entwickeln, Ätzen, Strip und Metall-Lift-off in Spin- oder Tankprozessen für die Halbleiterindustrie und verwandte Bereiche wie Photovoltaik.
Der Kundenkreis erstreckt sich von der Elektronikbranche über die Photovoltaik zur Optik und Feinwerk-, Mikro- und Nanotechnik. Die 30-jährige Erfahrung in Prozesstechnik und Maschinenbau schätzen unsere Kunden.
Advanced Single Substrate Wet-Processing Systems
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MultiCap
Single Wafer Processor, multiple process modules |
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VertiClean
Automated Photomask Processor with multiple tanks |
Modularer Aufbau
Unsere Systeme für
Nassprozesse sind modular aufgebaut und können somit leicht
kundenspezifischen Lösungen angepasst werden. Wir bieten Ihnen hohe
Flexibilität durch die Integration mehrerer Prozessarten in unseren
Modulen.
Optimale Komponentenauswahl
Die eingebauten Komponenten sind von höchster Qualität und Zuverlässigkeit und garantieren optimale, reproduzierbare Prozessergebnisse, geringen Wartungsaufwand und höchste Betriebszeiten. Einfachste Bedienbarkeit
Unsere Anlagen gewährleisten einfachste Bedienbarkeit, Rezepterstellung und Kontrolle aller Prozessparameter an der Bedieneroberfläche, ergonomisches Design sowie ein höchstes Maß an Sicherheit.