Die Produktpalette der acp GmbH umfasst auch Prozessanlagen für die Bereiche Reinigung und Strukturierung von Wafern und Masken aus dem Betriebsübergang der Contrade GmbH in acp.

Dies umfasst das Entwickeln, Ätzen, Strip und Metall-Lift-off in Spin- oder Tankprozessen für die Halbleiterindustrie und verwandte Bereiche wie Photovoltaik.

Der Kundenkreis erstreckt sich von der Elektronikbranche über die Photovoltaik zur Optik und Feinwerk-, Mikro- und Nanotechnik. Die 30-jährige Erfahrung in Prozesstechnik und Maschinenbau schätzen unsere Kunden.

CorWet Modular Single Wafer Cleaner

	CapSpin Advanced Photomask Processor for spin processing

MultiCap Single Wafer Processor, multiple process modules

	VertiClean Automated Photomask Processor with multiple tanks

Unsere Systeme für Nassprozesse sind modular aufgebaut und können somit leicht kundenspezifischen Lösungen angepasst werden. Wir bieten Ihnen hohe Flexibilität durch die Integration mehrerer Prozessarten in unseren Modulen.

Die eingebauten Komponenten sind von höchster Qualität und Zuverlässigkeit und garantieren optimale, reproduzierbare Prozessergebnisse, geringen Wartungsaufwand und höchste Betriebszeiten.

Unsere Anlagen gewährleisten einfachste Bedienbarkeit, Rezepterstellung und Kontrolle aller Prozessparameter an der Bedieneroberfläche, ergonomisches Design sowie ein höchstes Maß an Sicherheit.