Das Erzeugen von hochreinen Oberflächen mit dem patentierten acp CO2-Schneestrahl Reinigungsverfahren ermöglicht eine schonende Reinigung durch verschiedene Wirkeffekte auf der Oberfläche. Das acp CO2-Schneestrahl Reinigungsverfahren zeichnet sich durch minimalen Medienverbrauch und sehr guter Automatisierbarkeit aus. Die patentierte acp-Jet Düsengeometrie ermöglicht eine herausragende Reinigungsleistung. >>mehr

Darüber hinaus bieten wir die umfangreiche Reinigung mittels Nass-Chemischer Prozesse an. In diesem Zusammenhang realisieren wir alle Prozesse, welche die Bearbeitung von Einzelsubstraten wie z. B. Wafer, Fotomasken, Solarzellen und Glas beinhalten. >>mehr

Mit der Technologie der Oberflächen Inspektion bieten wir Systeme zur direkten Partikel- und Schichterkennung auf technischen Oberflächen an. Die innovativen Inspektionslösungen ermöglichen eine sofortige hochauflösende Oberflächen Inspektion auf Partikel, Staub und filmische Verunreinigungen. >>mehr